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溶膠膠體磨,溶膠高速膠體磨,液溶膠膠體磨,德國膠體磨是透過膠體磨定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。

溶膠溶膠是膠體顆粒的直徑大小為1-100nm(也有人主張1-1000nm)。并把直徑為1-100nm的分散相粒子在分散介質里的分散質。溶膠是多相分散體系，在介質中不溶，有明顯的相界面，為疏液膠體。
溶膠一般是指液溶膠，液溶膠是指通過水解和聚合作用，形成的有機或無機的納米或微米級的粒子。這些粒子通常帶有電荷，并由于電荷作用，吸附一層溶劑分子，形成由溶劑包覆的納米或微米粒子，即膠體粒子，這些膠體粒子由于帶有電荷而相互排斥，從而能以懸浮狀態存在于溶劑中，即形成溶膠；膠體粒子由于失去電荷，或者包覆在外圈的溶劑層被破壞，膠體粒子發生聚合，溶膠發生固化即形成凝膠。

溶膠一般有三個特征：

1. 分散相粒子大小在1—100nm范圍，且分散相在分散介質中的溶解度很小。分散相和分散介質存在分界面，因此它是高度分散的多相體系，粘度比真溶液大；
2. 溶膠不穩定，膠粒具有自動凝結變大的趨勢，放置較長一段時間后，也會沉淀出來，但是短時間內具有一定穩定性；
3. 膠體沉淀后，如果再放入分散介質也不會再自動形成溶膠，因此沉淀是不可逆的過

由于制備溶膠要求分散質以交替狀態分布于介質中，而且這種分散體系能在穩定劑存在下能夠穩定下來。從粒子大小看，由于溶膠粒子小于可濾出的粒子，而大于一般溶液的小分子，故可采用兩種途徑達到：將大塊物質利用膠體磨等手段，磨成直徑0.1—1μm的粒子，即分散法；或使更小粒子凝聚成膠體粒子，即凝聚法。
分散法：可以采取機械研磨，超聲作用，電分散或化學法等。

是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出***終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

 

研磨分散機應用領域： 化學工業：油漆、顏料、染料、涂料、潤滑油、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,鈦白粉,炭黑，石墨烯，碳納米管，富勒烯，凝膠，溶膠，壓裂液 催化劑 纖維  等。  食品工業：蘆薈、菠蘿、芝麻、果茶、冰淇淋、月餅餡、奶油、果醬、果汁、大豆、豆醬、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品，麥乳精、香精、各種飲料 花生醬、豆瓣醬、香菇醬、辣醬、醬蝦醬，蛋黃醬，沙拉醬，奶酪 食用菌絲，大豆蛋白粉 豆粕等 日用化工：牙膏、洗滌劑、洗發精、鞋油、高級化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜等。 醫藥工業：各型糖漿、營養液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮，膠囊，微球，口服混懸液，動物組織破壁，纖維素 等。  建筑工業：各種涂料。包括內外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。  其它工業：塑料工業、紡織工業、造紙工業、煤炭浮選劑、納米材料等行業優質環保的生產需要 。 新能源材料：石墨烯、石墨烯涂料、石墨烯超級電容、石墨烯潤滑油、  碳納米管 、碳纖維、   鋰電池漿料、電池隔膜 潤滑油等等

設備等級：化工級、衛生I級、衛生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯結形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器

研磨分散機	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
CMD 2000/4	300	9,000	23	2.2	DN25/DN15
CMD 2000/5	3000	6,000	23	7.5	DN40/DN32
CMD 2000/10	8000	4,200	23	22	DN80/DN65
CMD 2000/20	20000	2,850	23	37	DN80/DN65
CMD 2000/30	40000	1,420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	80000	1,100	23	110	DN200/DN150
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節到***大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和***終產品的要求。

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