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二維材料研磨分散機，二維材料剝離設備，超高速研磨分散機，線速度66M/S分散機是是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒（或稱為轉子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產生）加壓產生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果

二維材料 二維材料是指電子僅可在兩個維度的非納米尺度（1-100nm）上自由運動（平面運動）的材料，如納米薄膜、超晶格、量子阱。二維材料是指電子僅可在兩個維度的非納米尺度（1-100nm）上自由運動（平面運動）的材料，如納米薄膜、超晶格、量子阱。
納米材料是指材料在某一維、二維或三維方向上的尺度達到納米尺度。納米材料可以分為零維材料、一維材料、二維材料、三維材料。
零維材料是指電子無法自由運動的材料，如量子點、納米顆粒與粉末。
一維材料是指電子僅在一個非納米尺度方向上自由運動（直線運動），如納米線性結材料、量子線，*具代表的是碳納米管（carbon nanotube）。
三維材料是指電子可以在三個非納米尺度上自由運動，如納米粉末高壓成型或控制金屬液體結晶而得到的納米晶粒結構（納米結構材料）。

石墨烯材料  氮化硼（BN）、二硫化鉬（MoS2）。*近在凝聚態物理領域有著廣泛的研究。
二維材料研磨分散機，二維材料剝離設備，超高速研磨分散機，線速度66M/S分散機

粉碎研磨分散的本質是通過能量的輸入使不相溶的兩相或多相達到互相包裹，近似穩定均一狀態的做功過程。即形成乳液或懸浮液的條件是，在某一能量水平上， 各種微滴顆粒集聚的速度與分散的速度達到動態的平衡。
IKN膠體磨由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒（或稱為轉子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產生）加壓產生向下的螺旋沖擊力，透過定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果
 
為了達到巨大的能量輸入，IKN采用提高定轉子轉速的方法。在電機固定三千轉的前提下，我們采用立式的結構通過皮帶加速達到15000轉。這很容易做到，但重要的是其它的部件能否能在高轉速下保持穩定——軸承的強度夠不夠?機械密封會不會因為產生大量的熱而損毀泄露？主軸會不會偏振的很厲害，定轉子是否會發生摩擦?這些是IKN的關注點，也應該是廣大客戶在選型時應該重視的幾個方面。
 
 
IKN研磨機與國內研磨機比較：
轉速和剪切力：
國內研磨機，3000/4700 RPM直聯電機的轉速決定轉子轉速
線速度：V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
作用力：F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
IKN研磨機，9000/14000RPM通過皮帶加速
線速度：V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
作用力：F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
這是研磨粉碎的重要因素，相當于后者是前者的4-5倍
設備設計構造：
國內研磨機，臥室直聯結構，運行時間長，容易造成軸的偏心，運轉不正常，需要*的人員拆開內部結構更換。而且需要更換損害的乳化頭及軸
IKN研磨機，立式分體結構，運行時間長，不易造成軸的偏心，容易更換，而且只要更換相應的皮帶，一般的人員可以操作。
密封：
國內研磨機，填料密封或骨架密封，單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀
IKN研磨機，雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至*低，可24小時不停運轉，特殊德國PDFE軸封，可以運行10000小時，可選擇德國高品質機械密封，在一般的情況下，我們的機械密封可以*大承受16bar 壓力，根據機械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar ,這就決定我們的入口*大壓力可以達到12-13 bar .
產品效果：
國內研磨機，粒徑細度有限，10微米以下較困難，重復性差，產品粒徑分布不均勻
IKN高剪切研磨機 可實現0.1-1微米的顆粒加工，粒徑分布均勻，納米級分散乳化粉碎
 
IKN管線式粉碎機與國內粉碎機比較：
轉速和剪切力：
國內粉碎機，3000/4700 RPM直聯電機的轉速決定轉子轉速
線速度：V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
作用力：F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
IKN高剪切粉碎機，9000/14000RPM通過皮帶加速
線速度：V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
作用力：F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
這是研磨粉碎的重要因素，相當于后者是前者的4-5倍
設備設計構造：
國內粉碎機，臥室直聯結構，運行時間長，容易造成軸的偏心，運轉不正常，需要*的人員拆開內部結構更換。而且需要更換損害的乳化頭及軸
IKN粉碎機，立式分體結構，運行時間長，不易造成軸的偏心，容易更換，而且只要更換相應的皮帶，一般的人員可以操作。
密封：
國內粉碎機，填料密封或骨架密封，單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀
IKN粉碎機，雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至*低，可24小時不停運轉，特殊德國PDFE軸封，可以運行10000小時，可選擇德國高品質機械密封，在一般的情況下，我們的機械密封可以*大承受16bar 壓力，根據機械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar ,這就決定我們的入口*大壓力可以達到12-13 bar .
產品效果：
國內粉碎機，粒徑細度有限，10微米以下較困難，重復性差，產品粒徑分布不均勻
IKN高剪切粉碎機，可實現0.1-1微米的顆粒加工，粒徑分布均勻，納米級分散乳化粉碎
 
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IKN納米膠體磨與國內膠體磨的性能比較：

• 轉速和剪切速率：IKN納米膠體磨，可選擇德國機械密封，轉速可以達到15000轉F=23/0.7X1000=32857S-1F=40/0.7/X1000=57142S-1國內膠體磨，可選擇機械密封一般3000轉，大約在14293-215440S-1通過轉速比較可知，這是乳粉碎研磨的重要因素，相當于前者是后者的2-3倍

 

• 膠體磨頭和間距：IKN納米膠體磨，可以選擇六種不同的模塊頭，實現多種功能，如三級乳化模塊，超高速模塊，CM膠體模塊，CMO膠體模塊，批次粉液液混合模塊，連續粉液混合模塊。間距可調，可實現1-10微米小粒徑材料加工國內膠體磨，只有一種模塊頭，粒徑細度有限，100微米以下較困難，重復性差
• 機械密封：IKN納米膠體磨，雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至*低，可24小時不停運轉國內膠體磨，單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀

 
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定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。
②齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。
③溝槽的結構式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。
IKN管線式高剪切膠體磨與臥式膠體磨比較：
轉速和剪切力：
國內膠體磨，3000/4700 RPM直聯電機的轉速決定轉子轉速
線速度：V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
作用力：F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
IKN高剪切膠體磨，9000/14000RPM通過皮帶加速
線速度：V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
作用力：F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
這是研磨粉碎的重要因素，相當于后者是前者的4-5倍
設備設計構造：
國內膠體磨，臥室直聯結構，運行時間長，容易造成軸的偏心，運轉不正常，需要*的人員拆開內部結構更換。而且需要更換損害的乳化頭及軸
IKN高剪切膠體磨，立式分體結構，運行時間長，不易造成軸的偏心，容易更換，而且只要更換相應的皮帶，一般的人員可以操作。
密封：
國內膠體磨，填料密封或骨架密封，單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀
IKN膠體磨，雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至*低，可24小時不停運轉，特殊德國PDFE軸封，可以運行10000小時，可選擇德國高品質機械密封，在一般的情況下，我們的機械密封可以*大承受16bar 壓力，根據機械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar ,這就決定我們的入口*大壓力可以達到12-13 bar .
產品效果：
國內膠體磨，粒徑細度有限，10微米以下較困難，重復性差，產品粒徑分布不均勻
IKN高剪切膠體磨，可實現0.1-1微米的顆粒加工，粒徑分布均勻，納米級分散乳化粉碎


二維材料研磨分散機，二維材料剝離設備，超高速研磨分散機，線速度66M/S分散機