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    硫酸頭孢喹肟研磨分散機

    產品型號: CMSD2000
    品  牌: IKN
    • ≧1 臺
      ¥198567.00
    所 在 地: 上海松江區
    更新日期: 2025-04-15
    詳細信息
     型號:CMSD2000  品牌:IKN  工作方式:顆粒研磨機  
     適用物料:醫藥  應用領域:醫藥  加工批量:1000  
     驅動功率:30 kw 研磨籃容量:1000  介質尺寸:100  
     行程:10  外形尺寸:1-1-1 m 重量:400 kg 
     驅動方式:電動  作用對象:鋸刀  重量:400 kg 
    硫酸頭孢喹肟研磨分散機,頭孢類混懸液分散機,德國硫酸頭孢喹肟研磨分散機,混懸液高速分散機

    酸頭孢喹肟研磨機,硫酸頭孢喹肟均質機是當固體顆粒分散到一種液體中時,形成一種懸浮液。當一種液體分散到另一種液體中時,形成一種乳濁液。在一種乳濁液的兩個液相間的界面處,表面張力開始發生作用。新表面的產生需要能量。在沒有外部影響的情況下,每個液相體系均企圖以較少的能量達到乳濁液狀態。

     硫酸頭孢喹肟的工藝要求       

    *終產品: 混懸液

    用途: 混懸液

    工藝要求: 與藥物接觸部分為

    原材料: 硫酸頭孢喹肟

    液體(%): 三乙酸甘油酯、氫化蓖麻油、丙二醇

    固體(%): 硫酸頭孢喹肟

    密度(kg/m3): 1.05 溫度(℃): 35

     將頭孢喹肟原料藥加入至乳化罐,加適量三乙酸甘油酯,經研磨分散機進行分散均勻,加入丙二醇,混合均勻。

    硫酸頭孢喹肟研磨分散機的效果 

    ρs -ρ為分散相與連續相的密度差,g 為重力加速度,d 為分散相顆粒直徑,μ為連續相的粘度。如果分散相顆粒的密度比連續相密度大,顆粒下沉,速度 V 為正值,反之,顆粒上浮,速度為負值。沉降速度大,漿料就容易分層。如果要保持體系穩定,就必須降低沉降速度,對于特定的漿料可以通過減小分散相固體顆粒直徑 d。因為只有當粒徑減至連續相液體分子大小時,顆粒才能穩定、均勻地分散在液體中不發生分離。

    通過以上的分析我們可以看出,要提高懸浮液的穩定性,分散相顆粒的粒徑應盡量細小。但應該指出,根據前人所做的大量研究發現,隨著顆粒粒度的減小,雖然顆粒由重力引起的分離作用變為次要的因素,但是由于顆粒之間的間距減小,顆粒之間的結合力(范德華力等)起到了重要決定性作用。另外,當顆粒直徑小于某一細小尺寸時,此時,顆粒的布朗運動效應就不能忽略了,所以由于細小顆粒的布朗運動,而使得顆粒之間產生激烈地碰撞。若不加穩定劑,這些情況都會導致顆粒團聚,對體系的穩定是不利的。所以漿料的分散中,顆粒粒徑并非越細越好,要視漿料的特性而定。分散就是要根據物料的特性與特點,減小分散相顆粒的粒度,使其分布于一個較窄的尺寸范圍,并達到吸力與斥力的相互平衡,從而保證漿料體系的穩定。

     

    影響分散乳化結果的因素有以下幾點

     

     

    1 分散頭的形式(批次式和連續式)(連續式比批次好)

    2 分散頭的剪切速率 (越大,效果越好)

    3 分散頭的齒形結構(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)

    4 物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)

    5 循環次數(越多,效果越好,到設備的期限,就不能再好)

     

    線速度的計算

    剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

    – 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) 
    g 定-轉子 間距 (m)

    由上可知,剪切速率取決于以下因素:

    – 轉子的線速率

    – 在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
    IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

     

    速率V= 3.14 X D(轉子直徑)X 轉速 RPM / 60

     

        高的轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是*重要的。根據一些行業特殊要求,依肯公司在ERS2000系列的基礎上又開發出ERX2000超高速剪切乳化機機。其剪切速率可以超過200.00 rpm,轉子的速度可以達到66m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。

    磨分散機

    流量*

    輸出

    線速度

    功率

    入口/出口連接

    類型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMD 2000/4

    300

    9,000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CMD 2000/5

    3000

    6,000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CMD 2000/10

    8000

    4,200

    23

    22

    DN80/DN65

    CMD 2000/20

    20000

    2,850

    23

    37

    DN80/DN65

    CMD 2000/30

    40000

    1,420

    23

    55

    DN150/DN125

    CMD2000/50

    120000

    1,100

    23

    110

    DN200/DN150

    *流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節到*大允許量的10%。

    1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。

    2 處理量取決于物料的粘度,稠度和*終產品的要求。

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