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口服混懸液用什么設備？

 

目前國內市場上大多數的膠體磨機廠家生產出來的乳化機轉速只能達到3000rpm左右，*大的三級  當然我所說的都                                   

國內膠體磨的結構大都都是直連電機，膠體磨的主軸和電機直連，電機就決定了主軸的轉速。而進口膠體磨機采用分體式結構，通過皮帶進行變速，國產設備由于結構的設計缺失、機械密封技術的不足的原因，以及改進后成本大幅度的提高問題，一直無法實現高速膠體磨機的自主研發和生產。

口服混懸液一般的國內做法是采用 3000轉的膠體磨，由于 轉速較低，磨的效果不好，從而無法發揮材料的性能。造成這種情況的主要原因：

1、尚未對分散的作用有正確的認識．許多生產商并未意識到分散的重要性

2、 不知道對*終產品的品質如何評價

IKN工程師建議處理口服混懸液采用9000轉或者14000轉的膠體磨。

IKN高剪切膠體磨的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，同等情況下，剪切力越高，處理的懸浮液也就越細微均勻，穩定性也就越好。  

影響研磨效果因素：

   1 磨頭的形式（臥式和立式）

2 磨頭頭的剪切速率

   3  磨頭的齒形結構（見磨頭結構）

4 物料在磨頭墻體的停留時間，乳化分散時間

5 循環次數

研磨速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。 

• 研磨速率 (s-1) =       v  速率 (m/s)   
                g 定-轉子 間距 (m)

由上可知，研磨速率取決于以下因素： 

• 磨頭的線速率
• 在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 （相對而言）

速率V=  3.14 X  D（轉子直徑）X 轉速 RPM  /   60

口服混懸液用什么設備？

膠體磨CM2000三級錯齒結構的研磨轉子，配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達到4-5倍以上,*大的轉速可以達到14000RPM。所以可以達到更好的分散濕磨效果膠體磨CMD2000系列研磨分散設備是IKN（上海）公司經過研究研發出來的一款適合處理混懸液的產品，該機的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。     李佩佩膠體磨CM2000結構機理：由電動機、連接體、磨頭等組成，磨盤采用優質不銹鋼鍛壓制成，磨盤表面有三個以上溝槽，分為三級。每一級的溝槽刀齒數量、方向及寬度不同，越是向外延伸一級，磨片精度越高、齒距越小、線速度越長、物料越磨越細、刀齒的數量越多、剪切面越大、線速度越長、流體速度越快、細化效果越好。機械密封分：硬質內裝機械密封、外裝雙面硬質機械密封、金屬波紋硬質機械密封等三種密封可選。磨盤刀齒根據需要可以進行特殊氮化處理，增強刀齒的硬度，起到更耐磨、耐腐蝕的作用。轉磨與定磨可根據物料粘度、產量、顆粒細度進行手工調節，其功效為剪切率大、線速度長、無死角、處理量大、均質細化效果好。

膠體磨CM2000系列的特點：

①定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。

②齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。

③溝槽的結構式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。CM2000系列設備選型表：

 CM2000膠體磨為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到*低，保證機器連續24小時不停機運行。

口服混懸液用什么設備？