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原料藥濕法粉碎機，又被成為原料藥膠磨機，或者原料藥研磨分散機，特別適合于需要研磨、分散、均質一步到位的物料。IKN濕法粉碎機是將三級高剪切均質乳化機進行改裝，將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。磨頭間隙可調。

原料藥濕法粉碎機，為醫藥衛生級濕法研磨設備，標準配置所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼。     特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷。    李佩佩

原料藥濕法粉碎機是由膠磨機,分散機組合而成的高科技產品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。磨頭齒列深度為從開始的 2.7mm 到末端的0.7mm，除了更精密之外，上深下淺的齒列結構，相較溝槽是直線，同級的溝槽深度一樣的磨頭，可以保證物 料從上往下一直在進行研磨。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。分散頭的轉子定子結構符合流體力學的線性結構。在轉動時流體是切線方向甩開。

CMD2000系列研磨分散機的特點：

① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

② 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤ 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

CMD2000系列設備選型表

1.表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。

2.處理量取決于物料的粘度，稠度和*終產品的要求。

3.如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準確的參數，以便選型和定制。

4.本表的數據因技術改動，定制而不符，正確的參數以提供的實物為準.