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頭孢地嗪鈉混懸液膠體磨,頭孢地嗪鈉,混懸液膠體磨膠體磨
產品型號: |
CMD2000 |
品 牌: |
IKN |
|
所 在 地: |
上海松江區 |
更新日期: |
2025-04-15 |
| 品牌:IKN | | 型號:CMD2000 | | 工作方式:顆粒研磨機 | |
| 類型:轉軸式研磨機 | | 適用物料:乳化液,懸浮液 | | 應用領域:醫藥,化工,食品 | |
| 加工批量:100 | | 驅動功率:2.2 kw | | 研磨籃容量:2 L | |
| 介質尺寸:0.2 mm | | 行程:2000 mm | | 外形尺寸:500*230 m | |
| 重量:230 | | 行程:2000 mm | | 外形尺寸:500*230 m | |
頭孢地嗪鈉混懸液膠體磨,頭孢地嗪鈉,混懸液膠體磨膠體磨是使物料被有效地乳化、分散和粉碎上海依肯機械設備
頭孢地嗪鈉為半合成第三代頭孢霉素,對革蘭陽性菌、陰性菌均有抗菌活性,對β內酰胺酶穩定,對頭孢菌素酶和青霉素酶極穩定。臨床主要用于鏈球菌屬、肺炎球菌等敏感菌所致的肺炎、支氣管炎、咽喉炎、扁桃體炎、腎盂腎炎、尿路感染、淋菌性尿道炎、膽囊炎、膽管炎、婦科感染、敗血癥及中耳炎等。
頭孢地嗪鈉混懸液膠體磨的粉碎效果
影響研磨粉碎結果的因素有以下幾點
1 膠體磨磨頭頭的剪切速率 (越大,效果越好)
2 膠體磨頭的齒形結構(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)
3 物料在研磨腔體的停留時間,研磨粉碎時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)
4 循環次數(越多,效果越好,到設備的期限,就不能再好)
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
頭孢頭孢地嗪鈉混懸
磨分散機 |
流量* |
輸出 |
線速度 |
功率 |
入口/出口連接 |
類型 |
l/h |
rpm |
m/s |
kW |
|
CMD 2000/4 |
300 |
9,000 |
23 |
2.2 |
DN25/DN15 |
CMD 2000/5 |
3000 |
6,000 |
23 |
7.5 |
DN40/DN32 |
CMD 2000/10 |
8000 |
4,200 |
23 |
22 |
DN80/DN65 |
CMD 2000/20 |
20000 |
2,850 |
23 |
37 |
DN80/DN65 |
CMD 2000/30 |
40000 |
1,420 |
23 |
55 |
DN150/DN125 |
CMD2000/50 |
120000 |
1,100 |
23 |
110 |
DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節到*大允許量的10%。 |
1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和*終產品的要求。
頭孢混懸液膠體磨的特點
· 結合優良的研磨效果的高吞吐量
· 定制不同的研磨刀頭,實現多種研磨剪切速率
· 為減少顆粒大小的控制,可無限調整定子/轉子之間的間隙設置
· IKN膠體磨CM與生產系統的密實度作為機器聯機設計的結果。
· 適合于粘度高達50,000 mPas的各種粘度范圍的物料
· 能在高達16 bar的壓力下操作
· 容易擴大規模生產,從實驗室機器CM開發到生產機器CM
· 所有接觸液體的部件為316L或316Ti不銹鋼
· 具有耐磨材料的高性能機械密封密封
· 高質量的表面處理,便于清洗
· 可根據要求提供其他材料和表面處理
· 機器可自動排水, 具有CIP和SIP功能
· 噪音低
· 根據符合EHEDG(歐洲衛生工程設計集團)準則制造
· 符合3A衛生和認證
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