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無機鹽研磨分散機，高剪切研磨分散機

產品型號：

CMD2000

品牌：

IKN

≧1 臺
￥118900.00

所在地：

上海松江區

更新日期：

2025-04-15

詳細信息

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品牌：IKN	型號：CMD2000	工作方式：顆粒研磨機
類型：轉軸式研磨機	適用物料：乳化液，懸浮液	應用領域：醫藥，食品
加工批量：100	驅動功率：2.2 kw	研磨籃容量：2 L
介質尺寸：0.2 mm	行程：2000 mm	外形尺寸：500*230 m
重量：230	行程：2000 mm	外形尺寸：500*230 m

無機鹽研磨分散機，高剪切研磨分散機，研磨分散機，管線式研磨分散機，高剪切納米研磨分散機，德國進口分散機，實驗室分散機請電話聯系上海依肯機械設備：朱經理（微信QQ同號）

無機鹽研磨分散機，高剪切研磨分散機，研磨分散機：鋇鹽溶液通常用于食品和醫藥添加劑，要求細度在10μm作用，自然界中的鋇鹽顆粒一般較大，經過機器設備研磨和分散以后，一般無機鹽顆粒保持在20μm左右，普通砂磨機和研磨機都無法做到更細。為了將這種無機鹽顆粒研磨至10微米左右并進行有效的分散，需要用到高剪切研磨分散機CMD2000系列。將初始顆粒20μm的無機鹽溶液導入研磨分散機，研磨十五分鐘左右，進行檢測，D99＜10μm，D80＜5μm。

無機鹽研磨分散機，高剪切研磨分散機，研磨分散機CMD2000系列特點：
IKN研磨分散機是上海機械設備公司和德國IKN工程師合作研發的一款高科技產品，由膠體磨、分散機組合而成；是一款將研磨和分散兩種功能結合的完美的流體設備。
1.線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力非常強烈，通常所說的超細濕磨
2.定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3.定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
4.在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
5.高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。
6.具體設備咨詢：朱經理 021-33506885-809

CMD2000系列無機鹽研磨分散機，高剪切研磨分散機，研磨分散機的結構：*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。，公司有樣機提供實驗。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出*終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

研磨分散機的細化作用一般來說要強于均質機，但它對物料的適應能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。

CM2000系列是專門為膠體溶液生產所設計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。CM2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求，三級錯齒結構的研磨轉子，配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達到3倍以上,*小的轉速可以達到14000RPM。所以可以達到更好的分散濕磨效果。

膠體磨	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
CM 2000/4	700	9,000	23	2.2	DN25/DN15
CM 2000/5	3,000	6,000	23	7.5	DN40/DN32
CM 2000/10	8,000	4,200	23	22	DN50/DN50
CM 2000/20	20,000	2,850	23	37	DN80/DN65
CM 2000/30	40,000	1,420	23	55	DN150/DN125
CM 2000/50	80,000	1,100	23	110	DN200/DN150
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節到大允許量的10%。