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半導體性單壁碳納米管溶液研磨用高速大小型分散機作為一維納米材料，重量輕，結構連接完美，具有許多異常的力學、電學和化學性能。近些年隨著碳納米管及納米材料研究的深入其廣闊的應用前景也不斷地展現出來。

　　半導體性單壁碳納米管溶液性質

　　直徑:1.2nm-1.7nm

　　長度:300nm-5μm

　　金屬雜質:

　　無定型碳:1-5%

　　半導體性單壁碳納米管溶液應用

　　復合材料，電子器件，熒光標記

　　半導體性單壁碳納米管溶液研磨分散機，碳納米管研磨分散設備，管線式研磨分散機，高速研磨分散機

　　半導體性單壁碳納米管溶液制備難點

　　目前制備碳納米管的方法很多,然而這些方法所制得的產物中除碳納米管外常常還含有無定形碳、碳納米粒子及催化劑顆粒等雜質,這些雜質的存在直接影響到碳納米管的性能測試及其應用研究,因此碳納米管的純化研究十分必要與重要。而不同制備方法所得碳納米管的性質以及所引入的雜質都不相同,這就增加了碳納米管純化研究的難度。上海依肯公司結合該領域研究前沿對碳納米管的制備方法做了深入研究，根據以往實驗經驗推薦使用IKN碳納米管溶液研磨分散機。

　　半導體性單壁碳納米管溶液研磨分散機設備介紹:

　　IKN研磨分散機在碳納米管導分散中有著突出的優勢，IKN研磨分散機是將研磨機和分散機合二為一的設備，先研磨后分散，可以將碳納米管充分、均勻的分散到溶劑或樹脂當中，避免團聚，分散更均勻、穩定。

　　半導體性單壁碳納米管溶液研磨分散機是膠體磨（研磨機）和分散機組合而成的高科技產品。

　　第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

　　第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。

　　研磨分散設備在設計上的突出特點:

　　1、轉速14000rpm相較其它廠家2900轉左右高出約4-5倍:

　　2、磨頭結構更精密并有獨特設計,使之研磨作用力更大，效果更好。

　　3、德國進口雙端面機械密封擁有獨特結構和特殊材質保證高速運轉和長使用壽命。

　　4、CMD2000/4中試型研磨機與大型工業管線式量產機型配置基本相同。各種工作頭的種類及相應線速度相同，中試過程中的工藝參數在工業化后之后不用重新調整，從而將機器型號升級到工業化的過程中的風險降到*低。

　　研磨分散機設備的技術參數:

　　型號 流量L/H 轉速rpm 線速度m/s 功率kw 入/出口連接DN

　　CMD2000/4 300 9000 23 2.2 DN25/DN15

　　CMD2000/5 1000 6000 23 7.5 DN40/DN32

　　CMD2000/10 2000 4200 23 22 DN80/DN65

　　CMD2000/20 5000 2850 23 37 DN80/DN65

　　CMD2000/30 8000 1420 23 55 DN150/DN125

　　CMD2000/50 15000 1100 23 110 DN200/DN150

　　流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節到*大允許量的10%。

　　1.表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。 

　　2.處理量取決于物料的粘度，稠度和*終產品的要求。

　　3.如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準確的參數，以便選型和定制。

　　4.本表的數據因技術改動，定制而不符，正確的參數以提供的實物為準.