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依肯（IKN）光學PC薄膜漿料高速膠體磨CMSD2000

產品型號：

CMSD2000

品牌：

依肯（IKN）

≧1 臺
￥118900.00

所在地：

上海松江區

更新日期：

2025-04-18

詳細信息

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品牌：依肯（IKN）	型號：CMSD2000	加工定制：否
適用物料：漿料	應用領域：化工新材料	研磨籃容量：1 L
介質尺寸：1	外形尺寸：1-2	研磨籃容量：1 L

光學PC薄膜漿料高速膠體磨是一種具有優良的光學性能的功能薄膜材料，透光率可達90%以上。由于具有高透光率、高折射率、高抗沖性、易加工成型等特性，因此可廣泛應用于高清顯示屏、視窗產品、光學鏡片等領域。

研磨分散機工作原理：研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒（或稱為轉子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的gao速旋轉，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產生）加壓產生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被you xiao地乳化、分散和粉碎，da到物料超細粉碎及乳化的效果。

研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。

第y級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第er級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，te別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征dou能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出#終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

設備等級：化工級、衛生I級、衛生II級、無jun級
電機形式：普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐mo處理
進出口聯結形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器

研磨分散機	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
CMSD2000/4	300	14,000	41	4	DN25/DN15
CMSD 2000/5	1000	10,500	41	11	DN40/DN32
CMSD 2000/10	4000	7,200	41	30	DN80/DN65
CMSD 2000/20	10000	4,900	41	45	DN80/DN65
CMSD 2000/30	20000	2,850	41	90	DN150/DN125
CMSD2000/50	60000	1,100	41	160	DN200/DN150
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節到#大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和#終產品的要求。
3 如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，bi須提供準確的參數，以便選型和定制。
4 本表的數據因技術改動，定制而不符，正確的參數yi提供的實物為準。
5 本系列機型具有短程送料能力，無自吸功能，須選用高位進料；物料粘度或固含量高導致不能正常進料和輸送時，須選用壓力或輸送泵進料或送料，輸送泵的壓力和流量與被選機型相匹配。