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    芳綸纖維高剪切研磨分散機

    產品型號: CMD2000
    品  牌: 依肯
    • ≧1 臺
      ¥108900.00
    所 在 地: 上海松江區
    更新日期: 2025-04-27
    詳細信息
     型號:CMD2000  品牌:依肯  工作方式:高速萬能研磨機  
     適用物料:化工 化妝品 食品 藥品  應用領域:化工 化妝品 食品 藥品  驅動功率:2.2-110 kw 
     重量:55 kg 驅動方式:電機  作用對象:銑刀  
    芳綸纖維      助燃纖維   高強纖維    高剪切分散機
    芳綸漿粕是對芳綸纖維進行表面
    原纖化處理之后便得到的,其獨特的表面結構*地提高了混合物的抓附力,因此非常適合作為一種增強纖維應用于摩擦及密封產品中。
    芳綸漿粕纖維因兼有優異的濕加工性能和增強性能而被廣泛用于工業造紙。漿粕在水中很易分散抄紙,且漿粕原纖的高長徑比提供了芳綸漿粕強度,除了能夠改進彈性基體的抗拉強度、模量以及抗蠕變等性能外,由于其熱膨脹系數小、質輕、電性能優異而適合做高級絕緣用紙及需尺寸穩定性極高的印刷集成電路板,芳綸漿粕的輕量化高密度元件,可用于衛星通信線路、高速傳遞回路等電子產品。

    芳綸漿粕研磨分散機是電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化均質分散的效果。

    納米材料極易產生自身的團聚,使得應有的性能難以充分發揮。此外,納米氧化物的諸多奇異性能能否得到充分發揮,還取決于***大限度降低粉體與介質間的表面張力。因此,納米氧化物粉體必須均勻分散,充分打開其團聚體,才能發揮其應有的奇異性能。 

    納米材料在涂料體系中的分散,一般是采用下述分散方法來達到分散效果。 

    研磨分散:利用三輥機或多輥機的輥與輥速度的不同,將研磨料投入加料輥(后輥)和中輥之間的加料溝,二輥以不同速度內向旋轉,部分研磨料進入加料縫并受到強大的剪切作用,通過加料縫,研磨料被分為兩部分,一部分附加在加料輥上回到加料溝,另一部分由中輥帶到中輥和前輥之間的刮漆縫,在此又一次受到更強大的剪切力作用。經過刮漆縫,研磨料又分成兩部分,一部分由前輥帶到刮刀處,落入刮漆盤,另一部分再回到加料溝,如此經幾次循環,可達到分散的目的。但用三輥機或多輥機進行處理效率低,能耗高,滿足不了大生產的需求。 

     球磨分散: 通過球磨機中磨球之間及磨球與缸體間相互滾撞作用,使接觸鋼球的粉體粒子被撞碎或磨碎,同時使混合物在球的空隙內受到高度湍動混合作用而被均勻地分散。 

     砂磨分散: 砂磨是球磨的外延。只不過研磨介質是用微細的珠或砂。砂磨機可連續進料,納米粉體的預混合漿通過圓筒時,在筒中受到激烈攪拌的砂粒所給予的猛烈的撞擊和剪切作用,使得納米氧化物能很好地分散在涂料中,分散后的漿離開砂粒研磨區通過出口篩,溢流排出,出口篩可擋住砂粒,并使其回到筒中。通過球磨機和砂磨機分散能取得較好的分散效果及物料細度,但球磨機和砂磨機同樣無法避免處理效率低,能耗高的缺點。 

     研磨分散機: 高剪切分散機的核心部件是定子/轉子結構,轉子高速旋轉所產生的高切線速度和高頻機械效應帶來強勁的動能,使物料在定、轉子狹窄的間隙中受到強烈的機械剪切、液力剪切、離心擠壓、液層磨擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,使不相溶的固相、液相、氣相在相應成熟工藝的條件下,瞬間均勻精細地分散,經過高頻的循環往復,***終得到穩定的高品質產品。與三輥機、球磨機、砂磨機相比,研磨分散機具有效率高、能耗低等顯著優點,是分散工藝的首選。 

    納米材料研磨分散設備是IKN(上海)公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)

    1  線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨

    ②   定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

    ③   定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

    ④   在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    ⑤   高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。

    選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器 

    研磨分散機

    流量*

    輸出

    線速度

    功率

    入口/出口連接

    類型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMD 2000/4

    300

    9,000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CMD 2000/5

    1000

    6,000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CMD 2000/10

    3000

    4,200

    23

    22

    DN80/DN65

    CMD 2000/20

    8000

    2,850

    23

    37

    DN80/DN65

    CMD 2000/30

    20000

    1,420

    23

    55

    DN150/DN125

    CMD2000/50

    60000

    1,100

    23

    110

    DN200/DN150

    *流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節到***大允許量的10%。

    1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。

    2 處理量取決于物料的粘度,稠度和***終產品的要求。

    3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數,以便選型和定制。

    納米材料研磨分散機,德國納米材料研磨分散機


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