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納米二氧化鈦研磨分散機

產品型號：

CMSD2000

品牌：

IKN

≧1 臺
￥108900.00

所在地：

上海松江區

更新日期：

2025-04-15

詳細信息

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型號：CMSD2000	品牌：IKN	工作方式：顆粒研磨機
適用物料：化工	應用領域：化工	加工批量：10000
驅動功率：22 kw	研磨籃容量：1000	介質尺寸：100
行程：100	外形尺寸：1-1-1 m	重量：200 kg
驅動方式：電動	作用對象：鋸刀	材質：316

納米二氧化鈦研磨分散機,納米二氧化鈦分散機,二氧化鈦研磨分散機,是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發生化學反應的物質的混合過程。工業分散的目標是在連續相中實現“令人滿意的”精細分布。

當固體顆粒分散到一種液體中時，形成一種懸浮液。當一種液體分散到另一種液體中時，形成一種乳濁液。在一種乳濁液的兩個液相間的界面處，表面張力開始發生作用。新表面的產生需要能量。在沒有外部影響的情況下，每個液相體系均企圖以較少的能量達到乳濁液狀態。因此，總是會有產生較小界面的傾向，這阻礙任何乳濁液的形成。

納米二氧化鈦納米TiO2具有十分寶貴的光學性質，在汽車工業及諸多領域都顯示出美好的發展前景。納米二氧化鈦還具有很高的化學穩定性、熱穩定性、無毒性、超親水性、非遷移性，且完全可以與食品接觸，所以被廣泛應用于抗紫外材料、紡織、光催化觸媒、自潔玻璃、防曬霜、涂料、油墨、食品包裝材料、造紙工業、航天工業中。
二氧化鈦是廣泛使用的白色素，如油漆、防曬霜和藥片包衣。通常市場上都提供不同級別的粉末產品，但是實際使用時還會對細度提出新的要求。同時，這類粉體碰到液體時極易團聚。IKN 系列混合分散設備為快速分散而設計，達到窄粒徑分布，并防止結塊。

IKN工業設備用于二氧化鈦分散和研磨的優點
縮短工藝時間。IKN高剪切乳化分散設備可以迅速地混合分散二氧化鈦粉末，并消除結塊和團聚。IKN也提供PLD和PLC粉體/液體混合機，將粉體直接加入液體，無需循環處理，一次性通過便可成型。
提高品質。IKN高剪切混合機可以打碎結塊粉體，并與液體充分混合。這樣可以改善產品光澤和透明度，這兩個特征由分散好壞直接決定。
減少資金投入。IKN磨機可以***大程度縮小粒徑，達到窄粒徑分布。IKN分散研磨設備的流量比同類研磨設備高出很多，但也可達到相類似的效果。模塊化設計的IKN 2000系列產品，可以幫助客戶節約資金投資。

適合分散研磨二氧化鈦的IKN分散研磨設備

Batch: MSM, EDC, EDE, EDS
間歇式: EDC, EDE, EDS
******************************************************************************
Inline: HED, EDL , ER, ERS, PLD, PLC, CM, CMO
在線式: HED, EDL , ER, ERS, PLD, PLC, CM, CMO

納米二氧化鈦研磨分散機,

的細化作用一般來說要強于均質機，但它對物料的適應能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。

研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出***終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

研磨分散機應用領域：

化學工業：油漆、顏料、染料、涂料、潤滑油、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,鈦白粉,炭黑，石墨烯，碳納米管，富勒烯，凝膠，溶膠，壓裂液催化劑纖維等。
食品工業：蘆薈、菠蘿、芝麻、果茶、冰淇淋、月餅餡、奶油、果醬、果汁、大豆、豆醬、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品，麥乳精、香精、各種飲料花生醬、豆瓣醬、香菇醬、辣醬、醬蝦醬，蛋黃醬，沙拉醬，奶酪食用菌絲，大豆蛋白粉豆粕等

日用化工：牙膏、洗滌劑、洗發精、鞋油、高級化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜等。
醫藥工業：各型糖漿、營養液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮，膠囊，微球，口服混懸液，動物組織破壁，纖維素等。
建筑工業：各種涂料。包括內外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。
其它工業：塑料工業、紡織工業、造紙工業、煤炭浮選劑、納米材料等行業優質環保的生產需要。

新能源材料：石墨烯、石墨烯涂料、石墨烯超級電容、石墨烯潤滑油、碳納米管、碳纖維、鋰電池漿料、電池隔膜潤滑油等等

設備等級：化工級、衛生I級、衛生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯結形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器

研磨分散機	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
CMD 2000/4	300	9,000	23	2.2	DN25/DN15
CMD 2000/5	3000	6,000	23	7.5	DN40/DN32
CMD 2000/10	8000	4,200	23	22	DN80/DN65
CMD 2000/20	20000	2,850	23	37	DN80/DN65
CMD 2000/30	40000	1,420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	120000	1,100	23	110	DN200/DN150
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節到**大允許量的10%。